【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则:(1)先功能,后结构。先给出指标参数、生产要求、功能;(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整体。再由整体,定局部。(4)先设计,后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标:镀膜方法:CVD,PVD(蒸发、溅射、离子镀、复合镀);被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。真空镀膜机国内有哪些产商?广东大直径射频离子源批发价格
【真空镀膜之材料表面处理】表面处理:是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是,机械打磨,化学处理,表面热处理,喷涂表面,表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面处理的工艺有:真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。广东光学薄膜射频离子源自主研发设计生产真空镀膜机的工作原理。
【真空镀膜机清洗工艺之真空加热清洗】将工件放置于常压或真空中加热.促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的,这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件.促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下,为了得到原子级清洁表面,加热温度必高于450度才行.加热清洗方法特别有效。但有时,这种处理方法也会产生副作用。由于加热的结果,可能发生某些碳氢化合物聚合成较da的团粒,并同时分解成碳渣。
国泰真空GTRF-17/GTRF-23射频离子源直流源网灭弧采用特殊保护方式,可以在有效的保护网板的时候不停机,不会导致客户产品报废。栅网采用独特的加工工艺,确保栅网之间的曲率和平行度,网孔的中心距也做精密的调整,使得投射出来的离子束更均匀。射频中和器采用L型接法匹配:匹配速度快,效率高,点火更优。源头和中和器结构经常拆解部分的内六角进行电镀及消气处理,防止拆卸过程卡死,备件及耗品重复利用率高。射频电源及控制部分单独装配在一个电柜内,RF线缆做防辐射和泄漏处理,避免对通讯、控制信号的干扰,同时也做良好的散热处理。射频离子源可用于制备纳米材料、薄膜、光学器件等高科技产品。
【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高,水转印的用途越来越广fan。适用材料:所有的硬材料都适合水转印,适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用,但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印,时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言,水转印更充分的应用了印刷涂料,减少了废料泄漏和材料浪费的可能。真空镀膜机大概多少钱一台?广西射频离子源制造生产
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【真空镀膜机真空检漏方法之静态升压法】静态升压法属于真空检漏法中的一种,也是简单易行的真空系统检漏方法,因为它不需要用额外特殊的仪器或者特殊物质,通过测量规管就可以检测真空系统的总漏率,从而确定真空系统或部件是否满足工作要求。虽然胜在简单,但也存在局限。如果真空系统或容器存在漏孔的话,静态升压法是无法确定漏孔所在的。因此在确定系统是否有漏孔的同时还需要确定其位置的话,就需要配合其他方法来进行了。静态升压法的操作只要将被检容器抽空至相应的压力范围,再关闭阀门,隔离真空泵与真空容器,然后用真空计测量记录真空容器中压力随时间的变化过程,即可得出泄漏数据。《真空系统抽气达不到工作压力有哪些原因》中,螺杆真空泵厂家介绍的判断方法即是通过静态升压法实现的,比较方便。当然在应用过程中,要提高准确性就要减少其他因素干扰,需要在检测之前对容器进行净化清洗并烘干,或者用氮气进行冲洗。更严格一点可以在测量规管与容器之间设置冷阱,处理释放的可凝气体,而对可能存在的漏孔所漏进的空气不会造成影响。广东大直径射频离子源批发价格